殘余應力測量

簡要描述：該系統利用PEM調制光束的偏振狀態、先進探測和解調電子來測量光學如何改變偏振狀態。這就導致了一個偏振狀態相對于另一個偏振狀態的光延遲測量結果是90°。利用這些數據可以對雙折射、快速軸向和理論殘余應力測量進行評估。在平板透鏡和己完成透鏡的研究和生產中， HindsInstruments和Exicor斜入射角技術被用于評估光學雙折射

產品型號：OIA
廠商性質：代理商
更新時間：2022-09-27
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利用光彈調制器技術，Hinds 公司的應力雙折射測量系統(殘余應力測量)可以在深紫外（193nm）波段進行應力雙折射探測。針對特定材料制作（氟化鈣）和特定形狀（非球面透鏡）的技術解決方案。

應力雙折射測量系統，非球面透鏡應力雙折射測量，應力橢偏儀，應力橢偏測量,殘余應力測量

Hinds 公司的不規則非球面光學元件應力分布測量系統（應力雙折射測量系統）通過對光的調制解調可以測出待測光學元件中的雙折射大小和方向，這些數據同時也表示了應力的大小和方向。Hinds 公司這套不規則非球面光學元件應力分布測量系統的傾斜，多角度入射掃描技術可以保證對非球面不規則的光學元件（光刻機透鏡等）有著的掃描測量解決方案。

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